造成金属离子污染

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  主要用途:微电子产品生产用高纯水、半导体显像管制造业用超纯水、集成电路板生产清洗用超纯水、蓄电池用水、锂电池用水、太阳能电池用水、干电池用水等生产用水大都采用电子化工超纯水处理设备。

  应用领域:半导体材料、加工器件、印刷电路板和集成电路,成品及半成品器件清洗、实验室和中试车间用超纯水。

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  A 电导率不同,纯水电导率在2~10μs/cm之间,超纯水的电导率为0.056μs/cm;

  B 制造的难易程度不同,目前市场上使用的纯水基本上都是经过反渗透、蒸馏等方法制得,而超纯水是纯水的基础上还要经过光氧化技术、精处置和抛光处理等一系列复杂的纯化技术制得的;

  C 重金属、、微粒数等指标也大不相同,纯水杂质含量是ppm级,而超纯水为ppb级,简单地说超纯水中已经没有什么杂质,接近于理论上的水;

  E 对输送管道材质的要求也不相同,超纯水对输送管道材质的要求要比超纯水严格的多。

  微孔薄膜是依其过滤孔径的大小来去除微粒,而超滤(UF)薄膜则像一个分子筛,它以尺寸为基准,让溶液通过极微细的孔,以达到分离溶液中不同大小分子之目的。

  超滤膜是一种强韧、薄、具有选择性的通透膜,通常认为其过滤孔径约为0.01μm,可截留某种特定大小以上的分子,包括:胶质、微生物和热源。较小的分子,例如:水和离子,都可通过滤膜。

  所谓的硅材料,一般包括单晶硅、多晶硅、太阳能硅片电池以及半导体生产用的硅材料,这些产品中含有微量的污染就会导致器件失效。清洗的杂质主要包括包括有机物和无机物。无论是那种杂质都会导致各种缺陷,因此,对于硅材料的清洗和生产必须使用超纯水。硅材料清洗用超纯水处理设备LTLD是一套专门用于硅材料清洗的水处理设备,该设备采用先进的反渗透技术和EDI技术,EDI模块的使用取代了传统超纯水设备混床的使用,制水效果更加明显。

  由于水是一种溶解能力很强的溶剂,因此天然水中含有各种盐类和化合物,溶有CO2,还有胶体(包括硅胶和腐殖质胶体),天然水中还存在大量的非溶解性质,包括粘土、砂石、、微生物、藻类、浮游生物、热源等。

  制备超纯水的材料设备的材质都是用金属和塑料制成的,金属在水中会有痕量溶解,造成金属离子污染。一些高分子材料,在合成时常常加入各种添加剂、增塑剂、紫外吸光剂、着色剂,也引入大量的金属、非金属杂质,同时还会带来有机污染。

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  超纯水是指下列杂质含量极低的水:①无机电离杂质,如 Ca、Mg、Na、K、Fe、Fe、Mn、Al、HCO、CO、SO、Cl、NO、NO、SiO2、PO等;②有机物,如烷磺酸、油、有机铁、有机铝以及其他碳氢化合物等;③颗粒,如尘埃、氧化铁、铝、胶体硅等;④微生物,如、浮游生物和藻类等;⑤溶解气体,如N2、O2、CO2、H2S等。超纯水中电离杂质的含量用水的电阻率数值来衡量。理论上,纯水中只有H离子和OH离子参加导电。在25℃时超纯水的电阻率为 18.3(兆欧·厘米),一般约为15~18(兆欧·厘米)。

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